影響拋光氧化鋁拋光性能的一些因素，探索了拋光工藝參數(shù)對(duì)去除量的影響,即拋光壓力、拋光時(shí)間和下盤轉(zhuǎn)速與材料去除量的關(guān)系進(jìn)行了研究。
1、外加壓力對(duì)去除量的影響
拋光壓力是拋光工藝中的一個(gè)重要的參數(shù)。壓力增大時(shí),工件所受到的切向力增大,拋光顆粒對(duì)玻璃基片碰撞加強(qiáng),即機(jī)械研磨作用增強(qiáng),材料去除量隨之增大。當(dāng)壓力過高時(shí)拋光墊貯存拋光液的能力下降,漿料傳輸速率降低,反而使去除量降低。
2、拋光時(shí)間對(duì)去除量的影響
材料去除量隨著時(shí)間的延長(zhǎng)而增大;在拋光前期(60min內(nèi)),去除量很大,后段時(shí)間材料去除量變化趨于平緩。這是因?yàn)樵趻伖馇捌?基片表面粗糙峰較多,拋光去除的多是基片表面的粗糙峰,從而去除量大；隨著拋光時(shí)間的延長(zhǎng),基片表面去除量增大,其表面粗糙度減小,相應(yīng)粗糙峰也減少,去除越來越慢,從而引起去除量增加也比較緩慢。
3、下盤轉(zhuǎn)速對(duì)去除量的影響
下盤轉(zhuǎn)速對(duì)材料去除量的影響與壓力對(duì)材料去除量的影響變化趨勢(shì)相近,隨著下盤轉(zhuǎn)速的提高,材料去除量先增大后減小。
